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NEC vise la gravure de transistors à 0,10 micron au début 2003

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NEC vise la gravure de transistors à 0,10 micron au début 2003

Vendredi, 20/07/2001 - 22:00 0 commentaire
NEC vise la gravure de transistors à 0,10 micron au début 2003 zoom

NEC Corp a dévoilé un procédé technologique de gravure de transistors à 0,10 micron que le constructeur informatique japonais espère exploiter dès 2003 pour les microprocesseurs qui équiperont aussi bien les supercalculateurs que les téléphones portables. Le constructeur informatique japonais précise que les normes de fabrication seront établies en collaboration avec Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd (TSMC), premier sous-traitant au monde dans ce domaine. "Si nous sommes en mesure de le réaliser dans le courant du premier trimestre 2003, je pense que nous entrerons dans le cercle des leaders mondiaux", a déclaré Osamu Kudo, directeur général du développement chez NEC. "Il n'y a pas beaucoup de différence d'une norme à l'autre. La compétition se déroule sur le terrain de la vitesse. Sortir de produits ultra-rapide ou faibles consommateurs d'énergie dépend des procédés technologiques", a-t-il ajouté. Les principaux constructeurs de microprocesseurs se trouvent actuellement en pleine transition entre la technologie 0,18 et 0,13 micron et s'efforcent dans le même temps de passer sous la barre du dixième de micron (millionième de mètre). Toshiba Corp, premier fabricant japonais de puces, et Sony Corp ont annoncé en mai leur collaboration dans le cadre d'un projet visant à mettre au point d'ici mars 2004 les procédés permettant la fabrication de transistors de 0,10 et de 0,07 micron.

Reuters : http://fr.news.yahoo.com/010711/85/1gfd0.html

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