Le CEA-Leti prépare l’industrialisation de la lithographie par impression
Mardi, 21/07/2015 - 09:38
La lithographie par impression, qui fait l’objet de recherches depuis 20 ans dans le monde, entre dans sa dernière phase de développement. Avec le programme Inspire (Inprint Nanopatterning Solution Platform for IndustRial assEmet), le CEA-Leti travaille sur le sujet depuis 2003. "Avec Inspire, ...
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